Beijing logró un gran avance en la tecnología para la fabricación de circuitos electrónicos avanzados
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RNCC / FOTO CORTESÍA
En medio de la escalada de restricciones tecnológicas y tensiones geopolíticas, China logró un gran avance en la tecnología para la fabricación de circuitos electrónicos avanzados, al construir una fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) con parámetros competitivos a nivel internacional.
Los responsables de este hito fueron científicos del Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de Shanghái, dirigidos por Lin Nan, quien anteriormente trabajó como jefe de tecnología de fuentes de luz en la compañía
ASML, de Países Bajos. ASML es el único fabricante en el mundo de máquinas EUV, que se emplean para la producción de “chips” con nodos menores a los 7 nanómetros. No obstante, desde 2019 tiene prohibido vender sus modelos más avanzados a China debido a los controles de exportación del Departamento del Comercio de Estados Unidos.
Ahora, los investigadores chinos han desarrollado una plataforma experimental basada en láseres de estado sólido, muy diferente al equipo comercializado por ASML, que emplea luz emitida por un láser de dióxido de carbono para transferir patrones de circuitos al silicio y otros sustratos.
Según Chinese Journal of Lasers, al usar un láser de estado sólido del tamaño de un micrómetro se logró una eficiencia energética de hasta 3,4%, superando el 3,2% registrado por el Centro de Investigación Avanzada de Nanolitografía (Países Bajos) en 2019 y el 1,8% de la Escuela Politécnica Federal de Zúrich (Suiza) en 2021.
